粉體行業(yè)在線展覽
ASP-1300高精度四軸單面拋光設(shè)備
面議
奧美智能
ASP-1300高精度四軸單面拋光設(shè)備
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產(chǎn)品簡介
該系列設(shè)備是高精度四軸單面拋光設(shè)備,可選配銅盤、錫盤、不銹鋼盤等,適用于多種半導(dǎo)體材料的高精密拋光,滿足大批量產(chǎn)業(yè)化需求。
特點(diǎn)
● 強(qiáng)大的結(jié)構(gòu)
- 4 工位獨(dú)立氣缸加壓,對所有4個(gè)工位進(jìn)行精確的壓力控制
-C型鑄造主框架
● 自動(dòng)陶瓷盤定位系統(tǒng)
- 側(cè)定位塊氣缸,配合中心定位裝置
● 優(yōu)化的操作軟件
- 5步驟控制壓力、轉(zhuǎn)速和時(shí)間參數(shù),循環(huán)階段階梯式壓力控制
● 冷卻系統(tǒng):大盤和壓力板
- 提供**的DMP/CMP溫度條件
- 運(yùn)行時(shí)保持壓板的平坦?fàn)顟B(tài),確保產(chǎn)品高精度的TTV
● DMP車刀裝置
- 自修自面,確保良好的盤面平面度
- 優(yōu)秀的直線絲杠導(dǎo)軌
● CMP拋光墊清洗裝置
- 確保拋光墊保持**的CMP條件
規(guī)格
AWB-1400F全自動(dòng)液體蠟貼片機(jī)
VRG-250半自動(dòng)單軸減薄機(jī)
VRG-300A 全自動(dòng)減薄機(jī)
ASP-910高精度四軸單面拋光設(shè)備
ASL-910F高精度四軸單面拋光設(shè)備
ADCMP-1605
ADDMP-1605
ADS-300
全自動(dòng)液體蠟貼片機(jī)ADS-200
ASP-1300高精度四軸單面拋光設(shè)備
HRG-150
Qgrind 100
Chiron 250DA
搓擦機(jī)
SMAP-Ⅱ
ED16B
金相試樣磨拋機(jī)
MECPOL-PA進(jìn)口自動(dòng)磨拋機(jī)
SiC CMP拋光設(shè)備
PG6鏡面拋光機(jī)
GY-XB70下擺機(jī)
非金屬拋光機(jī)
干冰拋光設(shè)備-XJ-96