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上海研倍新材料 專業生產定制 各類靶材 合金靶材

1、產品信息   

2、產品規格

定制

3、產品概述

氧化鋁Al2O3靶材是一種硬質、化學穩定性高的材料，廣泛應用于薄膜制備過程中。它能夠提供穩定的濺射源，用于制備具有優異物理、化學性能的薄膜材料。在半導體領域，氧化鋁靶材用于制造集成電路中的絕緣層和介電層，提高電路的性能和可靠性。在光電器件中，氧化鋁靶材用于制備透明導電膜和抗反射層，提升器件的光電轉換效率。

4、產品用途

薄膜沉積：氧化鋁靶材可用于物理氣相沉積 (PVD) 或化學氣相沉積 (CVD) 過程，用于制備氧化鋁薄膜，這些薄膜可用于絕緣層、保護層或介電層。

光學涂層：氧化鋁靶材可用于制備光學涂層，如抗反射涂層、反射鏡涂層等。

硬質涂層：氧化鋁薄膜可用于制備硬質涂層，如陶瓷涂層、刀具涂層等。

電子器件：氧化鋁靶材可用于制備電子器件中的絕緣層或介電層，如集成電路、光電子器件等。

電磁屏蔽：ATO材料對微波的衰減性使其在計算機房、雷達屏蔽保護區等需要屏蔽電磁波的領域有應用潛力。

激光吸收材料：ATO納米粉體因其在特定波長范圍內的強吸收能力，可以用作激光吸收材料。