日本色www_成人无码www免费视频嘿嘿软件_欧美四级在线观看_精品三级在线观看_成人国产精品入口免费视频_国产精品pans私拍

粉體行業在線展覽

>PECVD設備

產品

PECVD設備

直接聯系

鵬城半導體技術（深圳）有限公司

廣東

產品規格型號

參考報價：

面議

品牌：

鵬城半導體

型號：

PECVD設備

關注度：

1200

產品介紹

PECVD設備（等離子體增加強化學氣相沉積PECVD）主要用于在潔凈真空環境下進行氮化硅和氧化硅的薄膜生長；采用單頻或雙頻等離子增強型化學氣相沉積技術，是沉積高質量的氮化硅、氧化硅等薄膜的理想工藝設備。

設備用途和功能特點

1、該設備是高真空單頻或雙頻等離子增強化學氣相沉積PECVD薄膜設備，主要用于制備氮化硅和氧化硅薄膜。

2、設備保護功能強，具備真空系統檢測與保護、水壓檢測與保護、相序檢測與保護、溫度檢測與保護。

3、配置尾氣處理裝置。

產品咨詢

PECVD設備

鵬城半導體技術（深圳）有限公司

請填寫您的姓名：*

請填寫您的電話：*

請填寫您的郵箱：*

請填寫您的單位/公司名稱：*

請提出您的問題：*

您需要的服務：

詢盤報價、價格查詢

發送產品資料

與您電話聯系

發送

中國粉體網保護您的隱私權：請參閱我們的保密政策來了解您數據的處理以及您這方面享有的權利。您繼續訪問我們的網站，表明您接受我們的使用條款

PECVD設備 - 1200

鵬城半導體技術（深圳）有限公司的其他產品

FLOW

其他測試設備