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一、概述

SE-m 是一款針對半導體行業定制的微區圖形結構測量的專用型光譜橢偏儀，其采用行業**橢偏創新技術，自主獨立研發出行業** 1 超小微光斑探測測量技術，2 定制超快測量速度，等**技術。可應用透明各類襯底上的減反膜、導電膜等薄膜的n/k/d測量，**適用于微區圖形的各種光學參數解析。

二、特色功能

■ 可定制光斑尺寸，*小可達30um；

■ 超快測量，單次測量時間小于0.5秒 ；

■ 系列配置靈活，支持功能定制設計；

■ 結構緊湊，更適應在線集成測量.

三、測量實例

微區圖形結構測量

四、應用場景

應用于光學常數測量，**適用于各類光學薄膜等鍍膜檢測應用。