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低能量離子減薄儀

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1090

產(chǎn)品介紹

儀器簡介:

儀器簡要介紹:

Technoorg 出品的Gentle Mill系列產(chǎn)品可用于*終拋光、很容易對先前在標(biāo)準(zhǔn)高能離子減薄儀上或FIB上處理過的樣品進(jìn)行清潔及改善性能。推薦用戶選擇Gentle Mill型號來進(jìn)行樣品制備

• 無合成產(chǎn)物

• 幾乎無損壞

**質(zhì)量的XTEM(截面透射電鏡),HRTEM(高分辨透射電鏡)或STEM(掃描透射電鏡)樣品制備。

這些配置的離子減薄儀也可適用于對磨凹(凹坑)處理過的或薄的(< 25 μm)、平面的、被機(jī)械拋光的樣品進(jìn)行快速減薄。

技術(shù)參數(shù):

主要技術(shù)參數(shù):

離子能量:100 - 2000 eV,連續(xù)可調(diào)

離子電流密度:**10 mA/cm2

離子束流:7 - 90 uA,連續(xù)可調(diào)

離子束直徑:750 - 1200 um (FWHM)

減薄速率:2000 eV離子能量及30度離子束入射角時,c-Si上的減薄速率為28 um/h

樣品臺

減薄角度:0 - 45°,電子調(diào)節(jié)步長為0.1°

計算機(jī)控制樣品平面旋轉(zhuǎn)

搖擺(0- 120°角度范圍,電子調(diào)節(jié)步長為10°)

出眾的厚度范圍:涵蓋TEM樣品厚度(30 - 200 um)

主要特點(diǎn):

主要特點(diǎn)優(yōu)點(diǎn):

Gentle Mill溫和型低能離子減薄儀(型號IV5/IV8)為***的制備高質(zhì)量TEM/FIB樣品的離子減薄工作站

● ***的低能離子源:Gentle Mill離子束工作站所用的熱陰極低能離子源,具有令人矚目的**技術(shù)。極其低能量的離子束確保使表面損壞及離子束誘導(dǎo)的無定形物減至*小限度。獨(dú)特的離子源結(jié)構(gòu)允許高離子束電流密度。所有離子槍參數(shù)包括加速電壓及陰極電流由數(shù)字反饋回路全自動控制,但它們在樣品制備過程中也可手動進(jìn)行改變。離子源參數(shù)的初始值既可自動也可手動設(shè)置,并可在電腦顯示屏中連續(xù)顯示。

● 無合成產(chǎn)物的樣品制備:Gentle Mill在低能量離子轟擊時對樣品無損壞的獨(dú)特能力,在應(yīng)用科學(xué)及材料研究領(lǐng)域中,給用戶提供了研究合成材料及自然材料中真實納米結(jié)構(gòu)的**工具。

● 對TEM/FIB樣品進(jìn)行清潔及后處理的快速、可靠的方法

● 獨(dú)立用戶模式,帶有預(yù)編程設(shè)置的自動操作:第三代Gentle Mill 3(型號IV8)為全計算機(jī)控制,通過易使用的圖形界面操作。所有減薄參數(shù)包括離子源的設(shè)置、氣流量控制、其它減薄參數(shù)如樣品移動及傾斜角度的設(shè)置、穿孔檢測等可以被貯存,或以任意步數(shù)進(jìn)行預(yù)編程。這種全自動特點(diǎn)減少了人為干預(yù),可制備高質(zhì)量的樣品。自動終止功能為圖像分析模塊支持的減薄過程的光學(xué)終止(探測樣品穿孔或監(jiān)視樣品表面形貌)。Gentle Mill 3配有軟件擴(kuò)展功能,可實現(xiàn)在線技術(shù)支持,通過網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行即時故障偵測及問題排除。

● 樣品進(jìn)樣系統(tǒng):真空裝載鎖定系統(tǒng),可進(jìn)行快速樣品更換;全機(jī)械、無膠合樣品裝載機(jī)構(gòu);對XTEM樣品特別設(shè)計的鈦框架及封裝技術(shù)

● 可應(yīng)用于工業(yè)環(huán)境研究

● 專門設(shè)計,可直接用于Hitachi的FIB-STEM/TEM系統(tǒng)3D樣品托:基于Hitachi的FIB/STEM 和Technoorg的Gentle Mill 離子束工作站,Hitachi 與Technoorg合作共同提供了一個完整方案用于特定要求低損壞樣品的制備。半自動和全自動的Gentle Mill型號具有低能量離子減薄及清潔能力,可用于FIB樣品制備的*后步驟來去除無定形物或損壞的表面層。這些型號可允許直接插入Hitachi的3D FIB/STEM樣品桿,因而樣品制備時間可大大地減少。

● 分類: Gentle Mill(型號為IV5),為計算機(jī)控制的標(biāo)準(zhǔn)型號;Gentle Mill 3(型號為IV8),為全自動型號;Gentle Mill Hi and Gentle Mill 3 Hi為與Hitachi FIB/STEM系統(tǒng)兼容的型號。

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低能量離子減薄儀

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