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等離子表面處理系統(tǒng)/等離子清洗機Pluto-30

Pluto30是專為研發(fā)而設(shè)計的全功能等離子體系統(tǒng)，13.56MHz射頻發(fā)生器和自動匹配網(wǎng)絡(luò)電源在整個過程區(qū)域產(chǎn)生均勻的等離子體。Pluto 30的真空腔可支持多達7個可調(diào)節(jié)樣品架，以容納各種形狀尺寸的樣品。Pluto30具有多種電極設(shè)置，可配置成RIE和PECVD模式，從而擴大了該系統(tǒng)的應(yīng)用范圍，提供給用戶****的靈活性。

特征及優(yōu)勢

**氣體輸送系統(tǒng)，提供氣體分配均勻性和靈活的氣體分配方法

不同工藝模式（RIE、下游等離子體等）的柔性電極配置

獨特的射頻系統(tǒng)提供**的工藝重復(fù)性和處理效率

全自動處理能力

圖形用戶界面支持配方編輯器、配方驅(qū)動流程并提供實時流程信息

臺式設(shè)計需要較小的占地面積

典型應(yīng)用

表面活化

提高表面能量以提高材料粘合性：預(yù)壓模粘合；預(yù)焊線粘合

增強表面膠體流動性：預(yù)成型；預(yù)倒裝芯片下溢

表面粗糙度和蝕刻

降低表面應(yīng)力，改善表面粘結(jié)性

灰化和表面清潔

Plasma等離子蝕刻（配備RIE配置)

電介質(zhì)/III-IV材料

納米涂層（配備液體前體輸送裝置）

耐水納米涂層：印刷電路板表面處理

防腐納米涂層：醫(yī)療器械，醫(yī)療植入物