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儀器介紹

TF200薄膜厚度測量系統利用薄膜干涉光學原理，對薄膜進行厚度測量及分析。用從深紫外到近紅外可選配的寬光譜光源照射薄膜表面，探頭同位接收反射光線。TF200根據反射回來的干涉光，用反復校準的算法快速反演計算出薄膜的厚度。測量范圍1nm-3mm，可同時完成多層膜厚的測試。對于100nm以上的薄膜，還可以測量n和k值。

產品特點

快速、準確、無損、靈活、易用、性價比高

應用領域

半導體（SiO2/SiNx、光刻膠、MEMS，SOI等）

LCD/TFT/PDP(液晶盒厚、聚亞酰胺ITO等)

LED (SiO2、光刻膠ITO等）

觸摸屏(ITO AR Coating反射/穿透率測試等)

汽車(防霧層、Hard Coating DLC等）

醫學（聚對二甲苯涂層球囊/導尿管壁厚藥膜等）

技術參數

注：1.取決于材料0.4%或2nm之間取較大者。

2.可選微光斑附件。