粉體行業在線展覽
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濱松光子學商貿（中國）有限公司
日本
面議
581
C11665-01 微米膜厚測量儀
特性
無參照物工作
尺寸緊湊，節省空間
高速、高準確度
不整平薄膜精確測量
分析光學常數（n，k）
可外部控制
參數
| 型號 | C11665-01 |
| 可測膜厚范圍（玻璃） | 0.5 μm to 700 μm*1 |
| 可測膜厚范圍（硅） | 0.5 μm to 300 μm*2 |
| 測量可重復性（硅） | 0.1 nm*3 *4 |
| 測量準確度（硅） | ±1 %*4 *5 |
| 光源 | LED |
| 測量波長 | 940 nm to 1000 nm |
| 光斑尺寸 | Approx. φ1 mm*4 |
| 工作距離 | 5 mm*4 |
| 可測層數 | **10層 |
| 分析 | FFT 分析，擬合分析，光學常數分析 |
| 測量時間 | 19 ms/點*6 |
| 光纖接口形狀 | FC |
| 外部控制功能 | RS-232C / Ethernet |
| 電源 | AC100 V to 240 V， 50 Hz/60 Hz |
| 功耗 | 85W |
*1：SiO2薄膜測量特性
*2：Si薄膜測量特性
*3：測量6 μm厚硅薄膜時的標準偏差
*4：取決于所使用的光學系統或物鏡的放大率
*5：在標準量具的測量保證范圍內
*6：連續數據采集時間不包括分析時間
電腦組合體系VG42
UNI800C多物料配料控制儀
在線HPXRF檢測設備
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0～10%糖度
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