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面議
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六源有機(jī)無機(jī)聯(lián)合蒸發(fā)鍍膜設(shè)備適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜、有機(jī)薄膜等,可用于科研單位進(jìn)行新材料、新工藝薄膜研究工作,也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗(yàn)工作。OPV系列真空蒸發(fā)鍍膜與手套箱聯(lián)合系統(tǒng)的用戶群體為科研院所及實(shí)驗(yàn)室,將真空蒸發(fā)系統(tǒng)工作室置于Glove box無水、無氧、無塵的超純環(huán)境中,PVD與Glove box硬件無縫對接,操控融合一體,廣泛應(yīng)用于有機(jī)、無機(jī)、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領(lǐng)域。
產(chǎn)品型號 | 六源有機(jī)無機(jī)聯(lián)合蒸發(fā)鍍膜設(shè)備 |
主要特點(diǎn) | 1、樣品在鍍膜過程中,帶有烘烤加熱功能,**烘烤加熱溫度為:室溫~180℃,測溫控溫。 2、設(shè)備帶有斷水?dāng)嚯娺B鎖保護(hù)報警裝置、防誤操作保護(hù)報警裝置。 |
技術(shù)參數(shù) | 1、鍍膜室:鍍膜腔室尺寸約為600×450×450mm,不銹鋼材料,方形前后開門結(jié)構(gòu),內(nèi)帶有防污板。 2、抽氣系統(tǒng):采用分子泵+機(jī)械泵抽氣系統(tǒng): 真空度:鍍膜室的極限真空≤6×10-4Pa; 系統(tǒng)漏率≤1×10-7PaL/s。 3、蒸發(fā)源系統(tǒng): 有機(jī)源蒸發(fā)源4個,容積5ml,2臺蒸發(fā)電源,可測溫控溫,加熱溫度400℃,功率0.5Kw; 擋板:蒸發(fā)源擋板采用自動磁力控制方式,控制其開啟; 安裝:蒸發(fā)源安裝在真空室的下底上。 4、樣品架系統(tǒng): 樣品架可放置大小為Φ120mm的樣品,載玻片; 樣品架可旋轉(zhuǎn),旋轉(zhuǎn)速度為:0~30轉(zhuǎn)/分; 安裝:樣品安裝在真空室的上蓋上,蒸發(fā)源安裝在真空室的下蓋上,向上蒸發(fā)鍍膜,蒸發(fā)源都帶有擋板裝置。 7、 5、無機(jī)蒸發(fā)源2套、容積5ml,2臺蒸發(fā)電源,加熱電流300A,功率3.2Kw; 8、 6、石英晶振膜厚控制儀:膜厚測量范圍0-999999?。 |
定制5臺機(jī)連體配套
SEM5000X
防爆觸摸屏/防爆電腦/防爆電腦
DLabs-MRS
金屬回收系統(tǒng)
熱風(fēng)循環(huán)烘箱CT-C系列
自動吸盤振動器離心式G08T
低溫催化LCO
干燥機(jī)控制
智能控制系統(tǒng)
PicoFemto掃描電鏡原位光電力一體化系統(tǒng)
BSD-TD-K氣體置換法