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EZ Imprinting推出了一款臺式獨立納米壓印系統(tǒng)：PL系列400/600.

EZImprinting是一種超高產(chǎn)率（> 99％）納米壓印光刻系統(tǒng)，帶有低于10納米的分辨率和一步自動釋放功能。

它即可以作為納米壓印系統(tǒng)，也可以作為傳統(tǒng)的掩模對準(zhǔn)器，同時提供可編程的自動控制功能。

EZI UV Nanoimprint System PL400

特點：

? 全晶圓壓印 - PL600適用于6英寸晶圓處理， PL400適用于4英寸晶圓處理

? 低于10納米分辨率，產(chǎn)率高達99％

? 一步自動釋放功能，可防止分離過程中模具/基材損壞，使壓印產(chǎn)量**化

? 支持各種類型的硬模和軟模

? 可變模具和基材尺寸，靈活方便

? 可編程PLC，通過自定義參數(shù)進行過程控制，帶觸摸屏用戶界面

? 對準(zhǔn)功能選項

? 多種工藝，適用于各種應(yīng)用光學(xué)器件，顯示器，數(shù)據(jù)存儲，生物醫(yī)學(xué)器件，半導(dǎo)體IC，化學(xué)合成和先進材料等

? 專有的紫外線固化納米壓印抗蝕劑對硬度或厚度沒有限制，并且與傳統(tǒng)的光刻工藝兼容

EZ Imprinting處理器參數(shù)：

基材尺寸: 4“標(biāo)準(zhǔn)（尺寸較小，形狀不規(guī)則）

印記區(qū) : 與晶圓尺寸相同。

模板尺寸 4”，2” and 1”