粉體行業在線展覽
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反應離子刻蝕
NRE-4000（M）反應離子刻蝕概述：
NRE-4000是一款獨立式RIE反應離子刻蝕系統，配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13"的上蓋式圓柱形鋁腔，便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口:一個帶有2"的視窗，另一個空置用于診斷.該系統可以支持**到12”的晶圓片。腔體為超凈設計，并且根據配套的真空泵可以達到10-6 Torr 或更小的極限真空。該系統系統可以在20mTorr到8Torr之間的真空下工作。真空泵組包含一個節流閥，一個250l/s的渦輪分子泵，濾網過濾器，以及一個10cfm的機械泵(帶Formblin泵油).RF射頻功率通過600W，13.56MHz的電源和自動調諧器提供。系統將持續監控直流自偏壓，該自偏壓可以高達-500V.這對于各向異性的刻蝕至關重要。
該系統是基于PC控制的全自動系統.系統真空壓力及DC直流偏壓將以圖形格式實時顯示，流量及功率則以數字形式實時顯示.系統提供密碼保護的四級訪問功能:操作員級、工程師級、工藝人員級，以及維護人員級.允許半自動模式(工程師模式)、寫程序模式(工藝模式)， 和全自動執行程序模式(操作模式)運行系統。基于全自動的控制，該系統具有高度的可重復性。
NRE-4000（M）反應離子刻蝕產品特點：
鋁質腔體或不銹鋼腔體
不銹鋼立柜
能夠刻蝕硅的化合物(~400? /min)以及金屬
典型的硅刻蝕速率，400 ?/min
高達12”的陽極氧化鋁RF樣品臺
水冷及加熱的RF樣品臺
大自偏壓
淋浴頭氣流分布
極限真空5x10-7Torr，20分鐘內可以達到10-6Torr級別
渦輪分子泵
*多支持8個MFC
無繞曲氣體管路
自動下游壓力控制
雙刻蝕能力支持：RIE以及PE刻蝕（可選）
終點監測
氣動升降頂蓋
手動上下載片
基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
菜單驅動，4級密碼訪問保護
完全的安全聯鎖
可選ICP離子源以及低溫冷卻樣品臺，用于深硅刻蝕
NRE-4000（M）反應離子刻蝕 Features：
Aluminum or Stainless Steel Chamber
Stainless Steel Cabinet
Capable of etching Si compounds (~400 ? /min)and metals
Typical Si etch rate， 400 ?/min
Up to 12“ Anodized RF Platen
Water Cooled and Heated RF Platen
Large Self Bias
Shower Head gas distribution
Approximately 10-6 Torr < 20 minutes， ~ 5 x10-7 Torr base pressure
Turbomolecular Pump
Up to eight MFCs
No flexing of gas lines
Down Stream Pressure Control
Dual Etch capability: RIE and Plasma Etch（Option）
End Point Detection
Pneumatically Lifted Top
Manual loading/unloading
PC Controlled with LabVIEW
Recipe Driven， Password Protected
Fully Safety Interlocked
Optional ICP source and cryogenic cooling of the platen for deep Si etch
