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Veeco(之前稱之為Cambridge Nanotech)已經有15年以上的ALD研發生產經驗。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大學，05年搬到Boston并生產出Thermal ALD - Savannah， 之后生產出Plasam ALD - Fuji、批量生產ALD-Phoenix。2017年被Veeco收購，并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今為止，Veeco在ALD設備已有15年多的經驗，全球已安裝五百多臺ALD設備。

方式: Thermal batch ALD

優勢:完全自動化的批量生產系統，*強生產能力（每月*多40000片），成本低，產量高，極優的一致性針對脆弱/溫度敏感的襯底解決方案，包括LNO/LTO/玻璃模塊化熱管理，以實現*強工藝靈活性和產量

薄膜: 氧化物薄膜，包含封裝層、光學涂層氧化物薄膜，包含封裝層、光學涂層

反應腔體大小: 無縫晶片尺寸轉換能力高達300mm