粉體行業在線展覽
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直接聯系
上海瞬渺光電技術有限公司
日本
面議
1163
產品特點：
? 非接觸式、不破壞樣品的光干涉式膜厚計。
? 高精度、高再現性測量紫外到近紅外波長反射率光譜，分析多層薄膜厚度、光學常數（n：折射率，k消光系數）。
? 寬闊的波長測量范圍。（190nm-1100nm）
? 薄膜到厚膜的膜厚測量范圍。（1nm~250μm）
? 對應顯微鏡下的微距測量口徑。
產品規格：
標準型 | 厚膜專用型 | ||
| 膜存測量范圍 | 1nm~40μm | 0.8μm~250μm | |
波長測量范圍 | 190~1100nm | 750~850nm | |
| 感光元件 | PDA 512ch（電子制冷） | CCD 512ch（電子制冷） | PDA 512ch（電子制冷） |
| 光源規格 | D2（紫外線）、12（可見光）、D2+12（紫外-可見光） | 12（可見光） | |
| 電源規格 | AC 100V±10V 750VA（自動樣品臺規格） | ||
| 尺寸 | 4810（H）×770（D）×714（W）mm（自動樣品臺規格之主體部分） | ||
| 重量 | 約96kg（自動樣品臺規格之主體部分） | ||
應用范圍：
FPD
-LCD、TFT、OLED（有機EL）
半導體、復合半導體
-矽半導體、半導體鐳射、強誘電、介電常數材料
資料儲存
-DVD、磁頭薄膜、磁性材料
光學材料
-濾光片、抗反射膜
平面顯示器
-液晶顯示器、膜膜電晶體、OLED
薄膜
-AR膜
其他
-建筑用材料
測量范圍：
玻璃上的二氧化鈦膜厚、膜質分析
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037
