粉體行業在線展覽
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TFC-6650C微波等離子體化學氣相沉積（MPCVD）設備
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碳方程新材料（山西）有限公司
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碳方程
TFC-6650C微波等離子體化學氣相沉積（MPCVD）設備
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特別適合應用于單晶和多晶金剛石膜、類金剛膜的化學汽相沉積；材料表面處理和改性；低溫氧化物的生長等領域。
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