粉體行業在線展覽
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熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF1200
直接聯系
北京泰科諾科技有限公司
北京
面議
北京泰科諾
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF1200
1051
設備名稱：熱絲 CVD 金剛石膜沉積設備
設備型號：HF1200
真空腔室結構：立式前開門結構，后置抽氣系統，雙層水冷
真空腔室尺寸：Φ1200mmxH1200mm
真空系統：高真空泵組系統
基片臺尺寸：Φ500mm2×600mm2 方形基片臺（旋轉、升降可選）
襯底溫度：600 ～ 1100℃
電源：專用熱絲電源 2200A, 恒流或恒功率模式
氣路控制：4 路氣體流量控制
控制方式：PC+PLC+ 觸摸屏控制
占地面積：主機 L5000mm×W3000mm×H4000mm
總功率：≥ 300kW
設備名稱：熱絲 CVD 金剛石膜沉積設備
設備型號：HF1200
真空腔室結構：立式前開門結構，后置抽氣系統，雙層水冷
真空腔室尺寸：Φ1200mmxH1200mm
真空系統：高真空泵組系統
基片臺尺寸：Φ500mm2×600mm2 方形基片臺（旋轉、升降可選）
襯底溫度：600 ～ 1100℃
電源：專用熱絲電源 2200A, 恒流或恒功率模式
氣路控制：4 路氣體流量控制
控制方式：PC+PLC+ 觸摸屏控制
占地面積：主機 L5000mm×W3000mm×H4000mm
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