粉體行業(yè)在線展覽
多功能磁控離子濺射復(fù)合鍍膜機(jī)TSU650
面議
北京泰科諾
多功能磁控離子濺射復(fù)合鍍膜機(jī)TSU650
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設(shè)備名稱:多功能磁控離子濺射復(fù)合鍍膜設(shè)備
設(shè)備型號:TSU650
真空腔室結(jié)構(gòu):立式圓柱形前開門,雙層水冷,多通用法蘭接口
真空腔室尺寸:Φ650mm×H650mm
工件架尺寸:Φ490mm,4-6 工位公 / 自轉(zhuǎn)工件架
工件架烘烤溫度:室溫~ 500±5℃,可調(diào)可控(PID 控溫)
工件架運(yùn)動方式:公轉(zhuǎn) 0-5RPM 可調(diào)
輔助離子源:偏壓、線性離子源輔助(可選)
陰極:矩形磁控靶、柱狀靶、平面弧源、磁過濾弧源(可選) 國產(chǎn)或進(jìn)口靶、或電源可選
控制方式:PLC 控制 / 工控機(jī)全自動控制可選
占地面積:主機(jī) L2800mm×W1200mm×H1950mm
總功率:≥ 60kW
選購件:基片臺加熱系統(tǒng)、循環(huán)水機(jī)、膜厚控制系統(tǒng)等
高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCP500 高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCPY500
高真空電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備TEMD600
ZHDS400
納米超硬膜涂層設(shè)備GDM1000
納米超硬膜涂層設(shè)備GDM900
粉體鍍膜設(shè)備JGCF800
粉體鍍膜設(shè)備JGCF350
鈣鈦礦太陽能電池磁控鍍膜設(shè)備JCP700
真空電弧爐VDK250
多功能磁控離子濺射復(fù)合鍍膜機(jī)TSU650
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF1200
高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCPY500
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037