粉體行業在線展覽
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水平離子濺射鍍膜設備
直接聯系
杰萊特（蘇州）精密儀器有限公司
江蘇
面議
杰萊特
水平離子濺射鍍膜設備
816
工藝參數：
一，真空系統
1、極限真空度：4.0×10-5Pa
2、抽至10Pa所用時間：≦ 10 分鐘
3、漏率： 3.0×10-5Pa m3/sec
二，控制精度
1、靶材旋轉：0.005°
2、工件旋轉:<1000RPM
3、編碼器: 12000lines;480000Counts/rev
4、膜厚修正板：0.005°
5、擋板: position switch
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
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Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
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定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037
