粉體行業在線展覽
粉體行業在線展覽
電阻蒸發鍍膜設備ZHD600
直接聯系
北京泰科諾科技有限公司
北京
面議
北京泰科諾
電阻蒸發鍍膜設備ZHD600
240
設備型號：ZHD600
鍍膜方式：多源蒸發鍍膜
真空腔室結構：立式圓柱前開門
真空腔室尺寸：Φ650mm×H800mm
加熱溫度：室溫～ 300℃
基片臺尺寸：平板或傘罩型
膜厚不均勻性：≤ ±5.0%
蒸發源：2-3 組金屬蒸發源
控制方式：PLC/PC（可選）
占地面積：主機 L1000mm×W1200mm×H1900mm
總功率：≥ 12kW
大專院校、科研院所及企業進行薄膜新材料的科研與小批量制備 。
1. 設備一體化設計，占地面積小，性價比高，性能穩定，使用維護成本低；
2. 設備配備多組蒸發源，兼容有機蒸發與無機蒸發 , 多源共蒸獲得復合膜。設計專業，功能強大，性能穩定；
3. 適用于實驗室制備金屬單質膜、半導體膜、有機膜，也可用于生產線前期工藝試驗等。
納米超硬膜涂層設備GDM1000
納米超硬膜涂層設備GDM900
粉體鍍膜設備JGCF1000
粉體鍍膜設備JGCF800
粉體鍍膜設備JGCF350
真空退火爐/釬焊爐VTHK550
高真空磁控濺射鍍膜設備JCP500 高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500
高真空電子束蒸發鍍膜設備TEMD600
電阻蒸發鍍膜設備ZHDS500
電阻蒸發鍍膜設備ZHDS400
電阻蒸發鍍膜設備ZHD600
電阻蒸發鍍膜設備.
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037
