粉體行業在線展覽
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Primo Twin-Star? 12 英寸刻蝕設備
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中微半導體設備（上海）股份有限公司
上海
面議
中微公司
Primo Twin-Star? 12 英寸刻蝕設備
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產品特點
雙反應臺腔體設計
低電容耦合3D線圈設計
高抽速大容量渦輪泵
雙通道進氣
精密的腔體溫控和RF窗口溫控系統
先進的高致密性、耐等離子體侵蝕涂層工藝多區動態溫控靜電吸盤
13兆赫或400千赫脈沖偏壓系統
可選的集成除膠反應腔
離子濃度和離子能量獨立可控
高排氣量和更寬的工藝窗口
優秀的刻蝕均勻性
優異的高深寬比刻蝕性能
高生產效率，低生產成本（CoO）
Plasma Scrubber等離子式廢氣處理設備
VOC凈化設備
Preforma Uniflex? CW
PRISMO UniMax? MOCVD設備
PRISMO HiT3? MOCVD設備
PRISMO A7? MOCVD設備
PRISMO D-BLUE?MOCVD設備
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Primo nanova?12英寸刻蝕設備
Primo TSV? 高性能、高產能的深硅刻蝕設備
Primo HD-RIE?新一代電介質刻蝕產品
Primo iDEA?雙反應臺刻蝕除膠一體機
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
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