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HDP-XPEED-eFlux12吋薄膜沉積設備

12吋薄膜沉積設備

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品牌：

盛吉盛

型號：

12吋薄膜沉積設備

關注度：

47

產品介紹

HDPCVD通過特殊的硬件和射頻系統設計，可以獲得比傳統PECVD高1至2個數量級的高密度等離子體，因其填充能力強、薄膜質量好的特點廣泛應用于淺槽隔離、介質層填充、鈍化層填充等具有一定深寬比的結構中。

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HDP-XPEED-eFlux12吋薄膜沉積設備

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