粉體行業在線展覽
CMP清洗
面議
CMP清洗
6
化學濕法清洗設備
適用于晶圓CMP后清洗
全自動的高自動化形式(濕進干出)
支持 6"、4"晶圓清洗
配備自凈功能
內外環境隔離:干濕分離
晶圓缺失檢測報警系統
旋干及熱N? 吹干系統
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037