粉體行業在線展覽
CDP-800
面議
CDP-800
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拋光頭可實現3 zone壓力控制
全系列機型可加工2-8寸及異形晶圓
納米級別移除精度
拋光粗糙度、速率、一致性行業**
具備精準的光學EPD終點檢測功能
拋光頭壓力可調制高達12psi
可編輯和儲存至少100條以上工藝菜單
可實現盤溫監控、自動冷卻、自動沖洗
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037