粉體行業在線展覽
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拉普拉斯低壓水平硼擴散設備 LRB430
直接聯系
拉普拉斯新能源科技股份有限公司
廣東
面議
拉普拉斯
拉普拉斯低壓水平硼擴散設備 LRB430
1882
設備的應用及特點：
應用
本設備適合156-210mm硅片生產，無傳統技術的搭片問題及其帶來的方阻均勻性問題，更高的方阻均勻性為客戶帶來更窄的效率分布和更高的電性能良率。更高的方阻均勻性為下一代高方阻工藝提供了可能，能幫助客戶進一步提升產品效率和競爭力。本設備采用氣態硼源，具有耗源量低和維護要求低的特點，運營成本為傳統技術的1/3。本設備具有行業內**產能，能幫助客戶降低固定資產投入和運營成本。
熱場
石英件
BHO200型超高溫氧化爐
超高溫退火爐
Bhadra?真空成型LVA400
Bhadra?立式
拉普拉斯電池間隙貼膜機
鍍膜自動上下料設備
拉普拉斯低壓水平化學氣相沉積鍍膜設備 LPCVD LLP430
拉普拉斯低壓水平氧化退火設備 LOX430
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拉普拉斯低壓水平磷擴散設備 LRP430
磁控蒸發復合鍍膜機JCPF2600
TEM 熱、電、氣、液、冷凍樣品桿
X-300 X-FLUXER? 三位全自動熔片儀
合金分析儀
TZ-517D
SHM1000
其他
NAI-ZLY-4/6C
CX-100
EMC-1
HMYX-2000
EXAKT 80E
