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>高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積及熱絲CVD系統---PECVD+熱絲CVD400

高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積及熱絲CVD系統---PECVD+熱絲CVD400

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中國科學院沈陽科學儀器股份有限公司

遼寧

產品規格型號
參考報價:

面議

品牌:

沈陽科學儀器

型號:

高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積及熱絲CVD系統---PECVD+熱絲CVD400

關注度:

989

產品介紹

產品概述:
系統主要由真空反應室、上蓋組件、噴淋頭裝置、熱絲架、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機臺、真空測量及電控系統等部分組成。
本系統具有PECVD功能和熱絲CVD功能。

設備用途:
PECVD即是化學氣相沉積法,是一種化工技術,該技術主要是利用含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質、在襯底表面上進行化學反應生成薄膜的方法。化學氣相淀積是近幾十年發展起來的制備無機材料的新技術。化學氣相淀積法已經廣泛用于提純物質、研制新晶體、淀積各種單晶、多晶或玻璃態無機薄膜材料。這些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物,也可以是III-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素間化合物,而且它們的物理功能可以通過氣相摻雜的淀積過程精確控制。化學氣相淀積已成為無機合成化學的一個新領域,PCEVD是等離子體增強化學氣相沉積英文的各個詞字母的**字母。

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高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積及熱絲CVD系統---PECVD+熱絲CVD400

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