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水相剪切剝離制備石墨烯設(shè)備，蠕蟲(chóng)石墨制備石墨烯研磨設(shè)備，膨脹石墨制備石墨烯設(shè)備，鱗片石墨制備石墨烯設(shè)備，少層石墨烯制備設(shè)備，德國(guó)進(jìn)口高級(jí)安全研磨設(shè)備，高轉(zhuǎn)速研磨分散設(shè)備

IKN研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)獨(dú)特，能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機(jī)多用，也可以單獨(dú)使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

水相剪切剝離制備石墨烯的方法，包括如下步驟：1）將原料石墨進(jìn)行插層處理，制備石墨插層化合物；2）加入一定量的活性物質(zhì)，在一定條件下對(duì)石墨層間化合物進(jìn)行剪切處理；3）將剪切處理后的混合液經(jīng)過(guò)離心或過(guò)濾制備可再次分散的高濃度石墨烯漿料或?yàn)V餅。該方法采用廉價(jià)試劑、于室溫下進(jìn)行剪切操作，能耗低、無(wú)污染、效率高，制備的石墨烯納米片層可廣泛應(yīng)用于能量?jī)?chǔ)存與轉(zhuǎn)化、催化、以及各種復(fù)合材料、涂料、導(dǎo)電墨水等領(lǐng)域。

石墨烯片層之間是通過(guò)和范德華力相互作用彼此堆砌在一起的。同時(shí)，石墨烯表面的高度惰性也使得它們只能分散在有限的溶劑中 石墨烯片層之間較強(qiáng)的層間相互作用使得在溶劑中的超聲剝離往往只能實(shí)現(xiàn)較低的剝離效率。

將石墨插層化合物與活性物質(zhì)加入到水中，在剪切作用下處理10分鐘-20小時(shí)，得到剝離的石墨烯懸浮液或分散液；所述活性物質(zhì)的用量為原料石墨質(zhì)量的0.01-10倍，水的加入量為原料石墨質(zhì)量的5-1000倍；

高速研磨分散機(jī)， 線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形，具有精細(xì)度遞升的三組鋸齒凸起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每都可以改變方向。第二組由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。被加工的物料通過(guò)本身的重量或者外部的壓力（可有泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，通過(guò)高速研磨分散機(jī)定轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。整機(jī)采用佳的幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨

2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

從設(shè)備角度來(lái)分析，影響分散效果因素有以下幾點(diǎn)：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間（可以看作同等電機(jī)，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）

線速度的計(jì)算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素，研磨分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的

CMSD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%