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單壁碳管漿料高速研磨分散機

CMD 2000/04

直接聯系

上海依肯機械設備有限公司

中國

產品規格型號
參考報價:

30-40萬元

品牌:

IKN

型號:

CMD 2000/04

關注度:

998

范圍(量程或細度):

0-10

創新點:

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產品介紹

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IKN研磨分散機設計特點,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用,也可以單使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調整。

碳納米管復合材料

(1)導電塑料(聚脂)。將碳納米管均勻地擴散到塑料中,可獲得強度更高并具有導電性能的塑料。可用于靜電噴涂和靜電消除材料,目前汽車的塑料零件由于采用了這種材料,可用普通塑料取代原用的工程塑料,簡化制造工藝,降低了成本,并獲得形狀更復雜、強度更高、表面更美觀的塑料零部件。是靜電噴涂塑料(聚脂)的發展方向。同時由于碳納米管復合材料具有良好的導電性能,不會象絕緣塑料產生靜電堆積,因此是用于靜電消除、晶片加工、磁盤制造及潔凈空間等領域的理想材料。碳納米管還有靜電屏蔽功能,由于電子設備外殼可消除外部靜電對設備的干擾,電子設備正常工作。

(2)電磁干擾屏蔽材料及隱形材料。由于特殊的結構和介電性質,碳納米管表現出較強的寬帶微波吸收性能,它同時還具有重量輕、導電性可調變、高溫抗氧化性能強和穩定性好等特點,是一種有前途的理想的微波吸收劑,可用于隱形材料、電磁屏蔽材料或暗室吸波材料。碳納米管將用于制造具有電磁功能及吸收電磁波功能的隱形材料。

上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質的物料。研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,機器連續24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了分散盤。可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質等功能,設備轉速可達14000rpm,是目前國內設備轉速的4-5倍。


行業內典型合作客戶包括成都某單位,沈陽某大學,為業內單壁碳管/碳納米管分散領域龍頭地位。


IKN單壁碳管漿料高速分散機

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設備其它參數:

設備等級:化工級、衛生I級、衛生II級、無菌級

電機形式:普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、

電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ

電機選配件: PTC 熱保護、降噪型

研磨分散機材質:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷

研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車

研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理

進出口聯結形式:法蘭、螺口、夾箍

研磨分散機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器


從設備角度來分析,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:

1.研磨頭的形式(批次式和連續式)(連續式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齒形結構(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)

5.循環次數(越多效果越好,到設備的期限就不能再好了。)


線速度的計算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)

g 定-轉子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。

IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D(轉子直徑)X 轉速 RPM / 60

所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個重要因素,分散均質分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是重要的


CMD2000系列研磨分散機設備選型表

型號 流量L/H 轉速rpm 線速度m/s 功率kw 入/出口連接DN

CMD2000/4 300 9000 23 2.2 DN25/DN15

CMD2000/5 1000 6000 23 7.5 DN40/DN32

CMD2000/10 2000 4200 23 22 DN80/DN65

CMD2000/20 5000 2850 23 37 DN80/DN65

CMD2000/30 8000 1420 23 55 DN150/DN125

CMD2000/50 15000 1100 23 110 DN200/DN150

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調節到大允許量的10%


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