粉體行業在線展覽
粉體行業在線展覽
晶圓真空傳輸平臺—VTM
直接聯系
合肥致真精密設備有限公司
安徽
面議
致真精密
晶圓真空傳輸平臺—VTM
1461
晶圓真空傳輸平臺采用四邊形、六邊形或八邊形設計，可以實現多個工藝室的互聯，系統可選配機械臂和校準裝置，可實現8或12吋晶圓的自動傳輸。系統搭配控制軟件可實現安全可靠的控制。
性能參數
晶圓尺寸 | 8或12吋 |
| 極限真空 | 優于5×10-7mbar |
| 前端模塊 | 可選EFEM等 |
| 對接口 | 四個，六個，八個（可實現多套互聯） |
| 機械臂 | 可選單臂和雙臂，定位精度±0.1mm |
| 校準裝置 | 對準器，校準傳感器 |
| 真空系統 | 機械泵+分子泵，可選離子泵等 |
| 控制系統 | PC+PLC 安全互鎖，碰撞保護,真空互鎖等 |
| 標準 | SEMI |
觀察窗擋板
傾斜式高溫樣品臺
蒸發源
圓形互聯設備（外置機械臂、內置機械臂）
兩個鍍膜系統直接互聯設備
超高真空管道傳輸設備
晶圓真空傳輸平臺—VTM
量產型磁控濺射設備—MSI-200
生產型磁控濺射設備—MSI-100-UHV
生產型磁控濺射設備—MSI-100-HV
量產級多功能薄膜沉積設備
分子束外延設備—MBE-400
