粉體行業(yè)在線展覽
QL-100
5-10萬(wàn)元
摩克立
QL-100
349
20
內(nèi)襯陶瓷
氣流磨粉碎碳化硅可精準(zhǔn)控制粒度在3~100微米(d97),粒型好、分布窄,適合高要求場(chǎng)景。流化床氣流磨無(wú)內(nèi)襯磨損、清潔環(huán)保且高效節(jié)能,通過(guò)優(yōu)化工藝參數(shù)可適應(yīng)不同硬度原料。
氣流磨粉碎碳化硅的粒度范圍
典型粒度:流化床氣流磨粉碎碳化硅的粒度分布集中,無(wú)過(guò)粉碎現(xiàn)象,粉碎細(xì)度通??蛇_(dá)d97: 3~100微米。
粒型與分布:粉碎后的碳化硅粒型好,粒度分布窄,適合對(duì)粒度要求較高的應(yīng)用場(chǎng)景。
影響粉碎粒度的因素
設(shè)備類型:
流化床氣流磨:通過(guò)高壓氣體加速物料顆粒,在噴嘴射流的交匯點(diǎn)發(fā)生沖擊碰撞實(shí)現(xiàn)粉碎,粉碎能力強(qiáng),粒度控制精準(zhǔn)。
扁平式圓盤(pán)氣流磨:通過(guò)噴射旋流粉碎室并帶動(dòng)物料做循環(huán)運(yùn)動(dòng),顆粒與機(jī)體及顆粒之間產(chǎn)生相互沖擊、碰撞、摩擦而粉碎,但粒度控制可能略遜于流化床氣流磨。
工藝參數(shù):包括氣流壓力、噴嘴速度、分級(jí)器轉(zhuǎn)速等,這些參數(shù)直接影響粉碎效率和粒度分布。
原料特性:碳化硅的硬度、純度等特性也會(huì)影響粉碎效果。一般來(lái)說(shuō),硬度越高、純度越高的碳化硅越難粉碎,但氣流磨通過(guò)優(yōu)化工藝參數(shù)仍可實(shí)現(xiàn)高效粉碎。
氣流磨粉碎碳化硅的優(yōu)勢(shì)
無(wú)內(nèi)襯磨損:流化床氣流磨無(wú)需內(nèi)襯即可研磨各種硬度的產(chǎn)品,機(jī)件磨損率低,適合長(zhǎng)期連續(xù)生產(chǎn)。
清潔環(huán)保:全系統(tǒng)密閉粉碎,粉塵少,噪音低,生產(chǎn)過(guò)程清潔環(huán)保。
高效節(jié)能:氣流磨由氣體提供的能量幾乎全部用在短程加速物料上,粉碎能力強(qiáng),能耗相對(duì)較低
MKL-QL10
QFY
MKLCJ60
MKLCJ-1000
QLF-40
QLF650
QLF750
YM-80/100/120
QLF850
QL-100
MKL-CJ12
YM80