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>硅基底CVD石墨烯膜

硅基底CVD石墨烯膜

Si-G

直接聯系

常州碳時代科技有限公司

江蘇常州

產品規格型號
參考報價:

1萬元以下

型號:

Si-G

關注度:

2875

創新點:

CVD工藝制備的石墨烯薄膜,單層率高,尺寸大

應用行業:

半導體行業,氮化鎵的生長

典型用戶:

微系統所,中興

產品介紹


硅基底CVD石墨烯膜


聯系電話:13685******,劉先生


硅片厚度:700微米

硅片表面氧化硅厚度:300nm

石墨烯層數:1層,2層,多層(可選)

石墨烯方阻:300-500(單層石墨烯)

石墨烯單層覆蓋率:>95%



樣品照片:


光學顯微鏡照片:

Raman光譜

參數價格:

量大可打折


存儲條件:

建議產品在常溫下保存在干燥,低氧(無氧)的容器中,建議一個月內使用完.


產品咨詢

硅基底CVD石墨烯膜

Si-G

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