粉體行業(yè)在線展覽
FM-PR-PDS
Fastmicro 掩膜版|保護膜表面顆粒物快速檢測系統(tǒng)(PDS)
為掩膜版、掩膜版保護膜以及基板(襯底)制造工藝,提供高通量的表面顆粒污染檢測服務。
該系統(tǒng)對粒徑大于 0.1μm 的顆粒具有高靈敏度,是一種高效且提供全方位服務的選擇。它能以手動或自動的操作方式,以及較低的維護成本,取代傳統(tǒng)的顆粒檢測系統(tǒng)。
產(chǎn)品特點:
高通量檢測:每小時可檢測 400 片晶圓(WPH)
數(shù)據(jù)輸出:根據(jù) ISO 14644-9 標準,在用戶界面和 PDF 報告輸出 SCP 等級
正反兩面檢測:單次測量中完成正反兩面檢測(無需翻轉(zhuǎn))
檢測范圍:能夠檢測 ≥ 0.1μm 聚苯乙烯乳膠(PSL)等效顆粒(經(jīng) NIST 認證)
生產(chǎn)過程中的一致性測量
快速: 能在數(shù)秒內(nèi)完成大面積成像
定量: 適用于生產(chǎn)和研發(fā)環(huán)境中的質(zhì)量鑒定與監(jiān)測
操作簡便: 不受操作人員影響,自動化,潔凈抓取方式
精準: 高分辨率測量(數(shù)量、位置、尺寸)
一致性: 每次測量都保持客觀、穩(wěn)定
高通量: 能在工藝時間窗口內(nèi)得出結(jié)果
FM-PDS: 直接檢測表面顆粒
該系統(tǒng)可為晶圓制造工藝、下一代化合物半導體以及先進封裝應 用,提供高通量的表面顆粒污染檢測服務。
該系統(tǒng)對粒徑大于 0.1μm 的顆粒具有高靈敏度,是一種高 效且提供全方位服務的選擇。
它能以手動或自動的操作方式,以及 較低的維護成本,取代傳統(tǒng)的顆粒檢測系統(tǒng)。
對于下一代半導體生產(chǎn)應用, PDS 系統(tǒng)具備獨特的屬性:雙面同 時掃描(選配);
靜態(tài)視場掃描(在圖像采集過程中無需移動產(chǎn)品)。
Pharos-STEM
Phenom Pharos
Neoscan N90
Phenom XL
Phenom Pro
ParticleMetric
ParticleX
VSP-G1
N80
N70
N60
VSP-P1