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飛納臺式掃描電鏡大樣品室版 Phenom XL G2

Phenom XL （電鏡腔室 100mm x 100mm）具有飛納電鏡系列以下優(yōu)點：

• 超高分辨

  —— 10 nm，**采用長壽命 1500 小時、高亮度的 CeB₆ 燈絲

• 快速成像

  —— 抽真空時間小于 30 秒

• 簡易操作

  —— 光學(xué) + 低倍電子導(dǎo)航定位，結(jié)合全自動馬達樣品臺移動觀測位置

• 直接觀測絕緣體

  —— 低真空設(shè)計，實現(xiàn)不噴金看絕緣體，且不影響燈絲壽命

• 高度自動化

  —— 自動聚焦，自動調(diào)節(jié)對比度亮度，拍照簡單快速

• 放置環(huán)境無特殊要求

  —— 無需獨立實驗室，無需超凈間

• 防震設(shè)計

  —— 緊湊的一體化設(shè)計，可不用防震臺擺放在高層

產(chǎn)品參數(shù)

光學(xué)顯微鏡：放大 3-16 倍

電子顯微鏡：200,000 倍

探測器：高靈敏度四分割背散射電子探測器

燈絲材料：1,500 小時 CeB6 燈絲

分辨率：優(yōu)于 8 nm

放置環(huán)境：采用專業(yè)防震設(shè)計，可擺放于普通實驗室或辦公室、廠房

加速電壓：4.8kV-20.5kV 連續(xù)可調(diào)

抽真空時間：小于 30 秒

能譜儀：可選配能譜儀

同時，Phenom XL 做出了如下改進，使其在擁有臺式掃描電鏡操作簡單等特點的前提下，具備大型落地式電鏡的高分辨率、多功能和拓展性強等優(yōu)勢：

Phenom XL 大樣品室**版可選配所有的拓展功能軟件選件，如 3D 粗糙度重建，纖維統(tǒng)計分析測量系統(tǒng)，顆粒統(tǒng)計分析測量系統(tǒng)，孔徑統(tǒng)計分析測量系統(tǒng)。

● 全自動顯微平臺Phenom XL + 拉伸臺

飛納電鏡此次的新品發(fā)布會上會呈現(xiàn)的產(chǎn)品——拉伸臺。此產(chǎn)品也是飛納臺式掃描電鏡Phenom XL 一項重大拓展。拉伸臺是一種動態(tài)觀察和分析材料微觀變形形貌及斷裂機制的手段,在材料科學(xué)前沿研究中發(fā)揮了重要作用。掃描電鏡原位拉伸臺的**特點是,在進行應(yīng)力—應(yīng)變力學(xué)定量測試的同時, 利用掃描電鏡的強大的景深、高空間分辨和分析功能，在微觀層面上對材料的力學(xué)性能進行動態(tài)研究。拉伸臺可以為很多材料做拉伸測試，如金屬材料(研究韌斷過程、應(yīng)力誘發(fā)相變及塑性變形),高分子材料，陶瓷材料等。飛納臺式掃描電鏡的原位拉伸臺能實現(xiàn) 2N to 1000N 的拉力區(qū)間，拉伸速度可實現(xiàn) 0.1mm/min 到 15mm/min，滿足幾乎所有領(lǐng)域樣品的原位拉伸觀測。

飛納臺式掃描電鏡大樣品室版 Phenom XL 拉伸臺

顆粒統(tǒng)計分析測量系統(tǒng)

顆粒統(tǒng)計分析測量系統(tǒng)軟件可以輕松獲取、分析圖片，并生成報告。借助該軟件，用戶可以收集到大量亞微米顆粒的形貌和粒徑數(shù)據(jù)。憑借遠超光鏡的放大倍數(shù)，顆粒軟件全自動化的測量，可以把工業(yè)粉末的設(shè)計、研發(fā)和品管提升到一個新臺階。

借助顆粒系統(tǒng)軟件，用戶可隨時獲得數(shù)據(jù)。因此，它加快了分析速度，并提高了產(chǎn)品質(zhì)量。

臺式掃描電鏡在粉末冶金領(lǐng)域的應(yīng)用

1. 粉體形貌、粒度觀察（<10000×，低壓SED）

2. 粉體粒度統(tǒng)計（使用飛納電鏡軟件-顆粒統(tǒng)計分析測量系統(tǒng)）

3. 燒結(jié)件缺陷檢查（使用飛納電鏡軟件-超大視野自動全景拼圖）

4. 成品表面質(zhì)量檢查+雜質(zhì)判定（掃描電鏡+能譜）

5. 脫脂前后形貌觀察