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Plasma 3000 雙向觀測(cè)ICP光譜儀

產(chǎn)品詳情

 鋼研納克ICP光譜儀，35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發(fā)經(jīng)驗(yàn),數(shù)十項(xiàng)ICP檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)的起草單位,ICP光譜儀產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)GB/T 36244-2018起草單位,重大科學(xué)儀器專項(xiàng)《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位。央企品牌，上市公司，品質(zhì)之選！歡迎來電洽談。聯(lián)系電話：400-62******。

儀器介紹

Plasma 3000 ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、醫(yī)藥、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。

Plasma 3000 ICP光譜儀具有垂直火炬，雙向觀測(cè)，冷錐消除尾焰，具有更寬的動(dòng)態(tài)線性范圍和更低的背景。

固態(tài)射頻發(fā)生器，高效穩(wěn)定，體積小巧，匹配速度快，確保Plasma 3000 ICP光譜儀高精度運(yùn)行及優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。

高速面陣 CCD 采集技術(shù)，單次曝光獲取全部譜線信息，Plasma 3000 ICP光譜儀真正實(shí)現(xiàn)“全譜直讀”。

功能強(qiáng)大的軟件系統(tǒng)，簡(jiǎn)化分析方法的開發(fā)過程。應(yīng)用工程師為ICP光譜儀用戶量身打造簡(jiǎn)潔、舒適的操作體驗(yàn)。

技術(shù)參數(shù)

Plasma 3000 ICP光譜儀分析性能

檢 出 限：亞 ppb- ppb 短期穩(wěn)定性：RSD ≤ 0.5%（1mg/L）
長(zhǎng)期穩(wěn)定性：RSD ≤ 1.0%（4h，1mg/L）

光源：固態(tài)射頻發(fā)生器，功率連續(xù) 1 瓦可調(diào) 震蕩頻率：27.12MHz

輸出功率：500W-1600W 功率穩(wěn)定性：< 0.1% 

儀器規(guī)格：尺寸：寬 x 深 x 高（2650px x 1675px x 1875px） 重  量：約 180kg

光學(xué)系統(tǒng)：分析譜線范圍：165-950nm

分  辨  率： 0.007nm@200nm 光室恒溫：38℃ ±0.1℃

CCD 像素：1024x 1024；單像素面積：24μm x 24μm 

實(shí)驗(yàn)室濕度環(huán)境：相對(duì)濕度 20%~80% 氬氣純度：不小于 99.995%

排  風(fēng)：不小于 400 立方米 / 小時(shí)

電  源：200V~240V AC 單相；50Hz~60Hz；4kVA

儀器特點(diǎn)

分光系統(tǒng)

Plasma 3000 ICP光譜儀采用徑向觀測(cè)與軸向觀測(cè)設(shè)計(jì)，適應(yīng)亞ppm到高含量的元素測(cè)量。 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu)，使用CaF2棱鏡，提高光路傳輸效率。 優(yōu)化的光學(xué)設(shè)計(jì)，采用非球面光學(xué)元件，改善成像質(zhì)量，提高光譜采集效率。 光室氣體氛圍保持技術(shù)，縮短光室充氣時(shí)間，提高紫外光譜靈敏度及穩(wěn)定性，開機(jī)即可測(cè)量。 包圍式立體控溫系統(tǒng)，保障光學(xué)系統(tǒng)長(zhǎng)期穩(wěn)定無漂移。

光源

固態(tài)射頻發(fā)生器，高效穩(wěn)定，體積小巧，效率高，匹配速度快，鋼研納克Plasma 3000 ICP光譜儀能適應(yīng)各種復(fù)雜基體樣品及揮發(fā)性有機(jī)溶劑的測(cè)試，均能獲得優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。 垂直炬管的設(shè)計(jì)，具有更好的樣品耐受性，減少了清潔需求，降低了備用炬管的消耗。 冷錐消除尾焰技術(shù)，**程度地降低自吸效應(yīng)和電離干擾，從而獲得更寬的動(dòng)態(tài)線性范圍和更 低的背景，保證準(zhǔn)確的測(cè)量結(jié)果。 具有綠色節(jié)能待機(jī)模式，待機(jī)時(shí)降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運(yùn)行，節(jié)約使用成本。

簡(jiǎn)潔的炬管安裝定位設(shè)計(jì)，快速定位，精確的位置重現(xiàn)。 實(shí)時(shí)監(jiān)控儀器運(yùn)行參數(shù)，高性能CAN工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)總線，保障通訊高效可靠。

進(jìn)樣系統(tǒng)

簡(jiǎn)潔的炬管安裝設(shè)計(jì)，自動(dòng)定位炬管位置，精確的位置重現(xiàn)。鋼研納克Plasma 3000 ICP光譜儀配備系列經(jīng)過優(yōu)化的進(jìn)樣系統(tǒng)，可用于有機(jī)溶劑、高鹽/復(fù)雜基體樣品、含氫氟酸（HF） 等樣品的測(cè)試。

使用可拆卸式或一體式炬管，易于維護(hù)，轉(zhuǎn)換快速，使用成本低。Plasma 3000 ICP光譜儀使用質(zhì)量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量，保障測(cè)試性能長(zhǎng)期穩(wěn)定。 多通道12滾輪蠕動(dòng)泵，提升樣品導(dǎo)入穩(wěn)定性。

檢測(cè)器

大面積背照式CCD檢測(cè)器,全譜段響應(yīng)，高紫外量子化效率，抗飽和溢出，具有極寬的動(dòng)態(tài)范 圍和極快的信號(hào)處理速度。 一次曝光，完成全譜光譜信號(hào)的采集讀取，從而獲得更為快速、準(zhǔn)確的分析結(jié)果。Plasma 3000 ICP光譜儀具有同類產(chǎn)品中**靶面尺寸，***像素，單像素面積24μm X 24μm，三級(jí)半導(dǎo)體制冷,制冷溫 度 低，具有更低的噪聲和更好的穩(wěn)定性。

軟件系統(tǒng)

人性化的界面設(shè)計(jì)，流暢易懂，簡(jiǎn)便易用，針對(duì)分析應(yīng)用優(yōu)化的軟件系統(tǒng)，無須復(fù)雜的方法開發(fā)， 即可快速開展分析操作。

豐富的譜線庫，智能提示潛在干擾元素，幫助用戶合理選擇分析譜線。 輕松的觀測(cè)方式設(shè)置，直觀的測(cè)試結(jié)果顯示。

安全防護(hù)

全方位電磁屏蔽，減少電磁輻射 連鎖門保護(hù)，避免用戶誤操作可能帶來的風(fēng)險(xiǎn) 防紫外觀測(cè)窗