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儀器簡介：

IMP離子蝕刻探針（Ion Milling Probe），自帶差式泵，堅固的二次離子質譜儀，適于分析離子蝕刻過程中的二次離子和中性粒子.

獨有的專業終點檢測（End Point Detection）儀器，用于離子蝕刻控制以及過程質量**化監測.

技術參數：

應用：

• 終點檢測（End Point Detection）

• 靶的純度鑒定

• 質量控制/ SPC.

• 殘余氣體分析

• 泄漏監測

主要特點：

特點：

• 高靈敏度的 SIMS/MS，帶脈沖離子計數檢測器

• 三級過濾四極桿，標準配置質量數為300 amu

• 差式泵歧管，經連接法蘭，接到過程室

• 離子光學器件，帶能量分析器和內置離子源

• Penning規和互鎖裝置，以提供過壓保護

• 數據系統與過程控制工具整合

• 穩定性(24h以上，峰高變化小于 ±0.5%)

• 通過 RS232、RS485或以太網， 軟件MASsoft控制

• 程控DDE， 平行數字式I/O， RS232通訊