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新產(chǎn)品氣體注入系統(tǒng)OmniGIS II，具有一套單端口、氣體源注入系統(tǒng)(GIS)。該系統(tǒng)可以允許用戶在SEM和FIB里構(gòu)建納米結(jié)構(gòu)，以達(dá)到以****的精度、速度和可用性。

在掃描電鏡或聚焦離子束樣品室中，氣體注入系統(tǒng)(GIS)直接在樣品上引入了可控制的流動(dòng)氣體方案。氣體與顯微鏡的電子束或離子束相互作用，可以在材料表面進(jìn)行刻蝕或沉積。應(yīng)用范圍包括樣品制備和納米焊接，以及采用直寫(xiě)式光刻技術(shù)建立納米結(jié)構(gòu)，從而實(shí)現(xiàn)無(wú)掩模納米圖案。

OmniGIS II，牛津儀器的第二代氣體注入系統(tǒng)，具有獨(dú)特的特性，相比同行業(yè)的同類產(chǎn)品，它能使控制水平和準(zhǔn)確性達(dá)到前所未見(jiàn)的高度。通氣口可以自動(dòng)識(shí)別氣體源并快 速進(jìn)行氣體源更換，同時(shí)可以安裝三種氣體源和另外兩種氣體。設(shè)備采用“流通式”載體的方法能促進(jìn)高效元素傳送并快速處理，并且壓力反饋控制會(huì)自動(dòng)調(diào)整到大 范圍真空室壓力，以實(shí)現(xiàn)高壓力下的快速處理或低壓力下的高分辨率納米圖案成形。