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·顯微鏡LED曝光單元UTA系列是用于光刻的圖案投影曝光設(shè)備，其不需要掩模。（無掩模曝光裝置）

·使用金屬顯微鏡和LED光源DLP投影儀，在涂有抗蝕劑的基板上投射幾微米分辨率的任何圖案并進(jìn)行曝光。

·可以在個人計(jì)算機(jī)上自由創(chuàng)建圖案。

·因?yàn)榭梢栽诖髿庵?span>各種尺寸和形狀的層狀材料的單晶薄板上形成電極。比電子束光刻更便宜和容易，也不需要 制造昂貴的電極圖案掩模。（當(dāng)分辨率約為幾微米就足夠了）

主要用途：電極形成薄膜FET和霍爾效應(yīng)測試樣品的的電極形成，從石墨烯/鉬粗糙原石中取出剝離的（薄）片并評估原石特性的電極形成。向研發(fā)應(yīng)用的模式形成 特點(diǎn)：由于顯微鏡和DLP的結(jié)合，可以比現(xiàn)有的無掩模曝光設(shè)備更低成本的去構(gòu)建系統(tǒng)

易于使用的專用軟件可以輕松創(chuàng)建曝光模式

利用物鏡的放大倍數(shù)，可以從精細(xì)圖案到大面積的一次性曝光

能做到幾微米的分辨率（幾微米的圖案模式）

曝光范圍： **2.5mm×1.5mm

　　 *小100μｍ×60μｍ

※和ARM300顯微鏡配套時(shí)候的數(shù)値

　Cmount0.57X使用時(shí)