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EM13LD 系列是采用先進(jìn)的測(cè)量技術(shù)，針對(duì)普通精度需求的研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的多入射角激光橢偏儀。

特點(diǎn)：

• 次納米的高靈敏度

  國(guó)際先進(jìn)的采樣方法、穩(wěn)定的核心器件、高質(zhì)量的制造工藝實(shí)現(xiàn)并保證了能夠測(cè)量極薄納米薄膜，膜厚精度可達(dá)到0.5nm。

• 3秒的快速測(cè)量

  國(guó)際水準(zhǔn)的儀器設(shè)計(jì)，在保證精度和準(zhǔn)確度的同時(shí)，可在3秒內(nèi)快速完成一次測(cè)量，可對(duì)納米膜層生長(zhǎng)過(guò)程進(jìn)行測(cè)量。

• 簡(jiǎn)單方便的儀器操作

  用戶只需一個(gè)按鈕即可完成復(fù)雜的材料測(cè)量和分析過(guò)程，數(shù)據(jù)一鍵導(dǎo)出。豐富的模型庫(kù)、材料庫(kù)方便用戶進(jìn)行高級(jí)測(cè)量設(shè)置。

應(yīng)用：

• EM13LD系列適合于普通精度要求的科研和工業(yè)環(huán)境中的新品研發(fā)或質(zhì)量控制。
• EM13LD系列可用于測(cè)量單層或多層納米薄膜層構(gòu)樣品的薄膜厚度、折射率n及消光系數(shù)k；可用于同時(shí)測(cè)量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k；可用于實(shí)時(shí)測(cè)量快速變化的納米薄膜的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。
• EM13LD可應(yīng)用的納米薄膜領(lǐng)域包括：微電子、半導(dǎo)體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽(yáng)電池、光學(xué)薄膜、生命科學(xué)、化學(xué)、電化學(xué)、磁質(zhì)存儲(chǔ)、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等。可應(yīng)用的塊狀材料領(lǐng)域包括：固體（金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等），或液體（純凈物或混合物）。

技術(shù)指標(biāo):

• 穩(wěn)定性的半導(dǎo)體激光光源、先進(jìn)的采樣方法，保證了穩(wěn)定性和準(zhǔn)確度
• 高精度的光學(xué)自準(zhǔn)直系統(tǒng)，保證了快速、高精度的樣品方位對(duì)準(zhǔn)
• 穩(wěn)定的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、可靠的樣品方位對(duì)準(zhǔn)，結(jié)合先進(jìn)的采樣技術(shù)，保證了快速、穩(wěn)定測(cè)量
• 分立式的多入射角選擇，可應(yīng)用于復(fù)雜樣品的折射率和**厚度的測(cè)量
• 一體化集成式的儀器結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，使得系統(tǒng)操作簡(jiǎn)單、整體穩(wěn)定性提高，并節(jié)省空間
• 一鍵式軟件設(shè)計(jì)以及豐富的物理模型庫(kù)和材料數(shù)據(jù)庫(kù)，方便用戶使用

可選配件：

• NFS-SiO2/Si二氧化硅納米薄膜標(biāo)片
• NFS-Si3N4/Si氮化硅納米薄膜標(biāo)片
• VP01真空吸附泵
• VP02真空吸附泵
• 樣品池