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原位氣氛反應納流控安全管理系統實現納升級別流體引入，高效精確控制氣體池中的流體的流速流量，可控流速低于10nL/s，目前市面上僅有實現芯片內觀測區(qū)域流體流入精確定量，及高效流體實時控制。獨特納流體精確控制技術使得引入流體在極其微量級別，在芯片窗體薄膜破裂的情況下，不會有大量氣體滲漏，電鏡的安全得以保證，實驗不受影響可持續(xù)進行。

技術標準：

1)移動工作站尺寸：L*W*H=600*600*2160，柜臺高度780；納流控設備尺寸：L*W*H=344*344*194（單位：mm），以實物尺寸為準。

2)PTFE或者PEEK涂層氣路通道，氣路及納米反應室總氣體量為百微升級，承受壓力高于5.5Bar

3)具備程序化控制流速及自清潔功能，可控流速低于10nL/s。

4)能和原位樣品桿相連接提供靜態(tài)封閉工作模式。

5)芯片氣體封裝：采用鍵合內封以及環(huán)氧樹脂外封雙保險，可適應電鏡超高真空全封裝設計保證揮發(fā)、滲漏不影響電鏡安全。

6) 芯片與循環(huán)流道間采用樹脂封裝連接方式，非壓力密封，無滲漏風險。

7)防爆安全閥：防止窗體破裂氣體滲漏時，造成電鏡損壞。