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為滿足納米級電子束曝光系統的需求，北京金竟科技有限責任公司**推出自主研發的Pharos Ex圖形發生器系統。圖形發生器是電子束曝光系統的核心部件，采用現場可編程邏輯門陣列器件（FPGA）作為核心處理器，將矢量圖形數據轉換為電子束曝光數據，通過優化設計的數模轉換電路，將數字量轉化成高精度的模擬量，驅動掃描電鏡的掃描偏轉系統偏轉電子束進行多路徑掃描。

圖形發生器對標準樣片進行圖像采集，完成寫場的線性畸變校正（掃描場增益、旋轉和位移校正）。圖形發生器控制束閘的通斷，配合高精度X-Y納米位移臺，可實現寫場的拼接及套刻，拼接及套刻精度優于100 nm。

技術參數

(1)圖形拼接精度：≤±100 nm（含有高精度位移臺）；

(2)圖形套刻精度：≤±100 nm（含有高精度位移臺）；

(3)掃描速度：**至20 MHz；

(4)線寬測量：根據SEM類型，優于50nm（場發射掃描電鏡）；

(5)配置高精度壓電位移臺；

(6)可選配電子束束閘及其控制器，信號開關速度優于50ns。