粉體行業在線展覽
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經濟型臺式磁控濺射系統
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重慶眺望科技有限公司
重慶
面議
重慶眺望
經濟型臺式磁控濺射系統
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主要特點
經濟型臺式濺射系統
可集成5個1.5英寸共濺射靶
向上或向下濺射
沉積均勻性+1-2.5% @ 3"(75mm)基片
選配load-lock預真空室
基片加熱溫度850℃℃，旋轉速率0-40rpm，直流和射頻偏壓，50mmZ軸可調工作距離··真正的共焦沉積系統，滿足單層和多層薄膜沉積應用
可集成4路MFC氣路，可進行反應濺射
計算機控制或半自動控制
高真空或超高真空
