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高真空有機(jī)及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)--DZ350
面議
沈陽科學(xué)儀器
高真空有機(jī)及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)--DZ350
1008
產(chǎn)品概述:
該設(shè)備主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng);真空測(cè)量系統(tǒng);蒸發(fā)源;樣品加熱控溫;電控系統(tǒng);配氣系統(tǒng)等部分組成。
設(shè)備用途:
熱蒸發(fā)是指把待鍍膜的基片或工件置于真空室內(nèi),通過對(duì)鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積于基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程。可在高真空下蒸發(fā)高質(zhì)量的不同厚度的金屬薄膜,廣泛應(yīng)用于物理,生物,化學(xué),材料,電子等領(lǐng)域。蒸鍍薄膜種類:Au, Cr, Ag, Al, Cu, In,有機(jī)物等。
高真空釬焊爐設(shè)備--QHL550
小型超高真空退火爐
大型高真空退火爐
碳化硅晶體生長(zhǎng)爐
導(dǎo)模法藍(lán)寶石晶體生長(zhǎng)爐
泡生法藍(lán)寶石晶體生長(zhǎng)爐
雙側(cè)無油渦旋泵
渦旋干式真空泵
螺桿干式真空泵JLG-1100A
羅茨干式真空泵GH-80A
金屬有機(jī)源氣相沉積系統(tǒng)--MOCVD
高真空硬碳膜制備系統(tǒng)--FHL600
磁控蒸發(fā)復(fù)合鍍膜機(jī)JCPF2600
TEM 熱、電、氣、液、冷凍樣品桿
X-300 X-FLUXER? 三位全自動(dòng)熔片儀
合金分析儀
TZ-517D
SHM1000
其他
NAI-ZLY-4/6C
CX-100
EMC-1
HMYX-2000
EXAKT 80E