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KYKY-EM82系列超高分辨場發射掃描電子顯微鏡

一、產品簡介

KYKY-EM8200超高分辨場發射掃描電子顯微鏡，采用全新電子光學設計，基于減速樣品臺、新一代低像差物鏡、Inlens探測器等技術，集成豐富的圖像處理功能，為新能源、半導體等用戶提供全新解決方案。

二、產品特點

1、高分辨電子光學系統

l 新一代低像差物鏡

l 減速樣品臺

l 低壓高分辨成像

2、高效便捷的用戶體驗

l 全新用戶界面設計

l 豐富的軟件測量功能

l 光學導航

l 著陸束流檢測

3、高性能信號探測系統

l 低噪聲Inlens探測器

l 自動推入式背散射探測器

l 豐富的探測器擴展接口

三、技術參數

四、產品功能

1、二次電子探測器

高信噪比，高帶寬 · 大景深，表征樣品表面形貌結構

2、不同探測器同時成像

· 顯示SE，BSE 雙通道圖像

· 可任意設置不同探

· BSE探測器，反應樣品表面的成分特征

3、陰極熒光成像

4 大圖拼接

· 樣品區全域視場矩陣自動規劃，拍照流程無需人工干預

· 百千張級數據量快速拼接實時預覽，構建全域清晰掃描大圖

5 粒度分析

采用深度學習的復合圖像處理算法，自動識別比例尺，精準識別圖像中的顆粒，多種形態參數的統計與導出，

摻鋁碳酸鈷

多種形態參數結果

多種形態數據輸出

6 關鍵尺寸測量

具備距離，角度，水平線/垂直線/圓徑測算等，豐富的圖像測量功能

五、定制能力

1、電子束曝光（EBL）

l 功能：基于掃描電鏡的電子束曝光系統（EBL），能夠精確地控制電子束的掃描路徑和能量沉積，從而實現高分辨率的圖形曝光。該系統采用先進的電子束掃描控制技術，支持靈活多樣的圖案設計和精確控制，不僅具有電子束曝光功能，還保留了原SEM 的觀測功能，這使得用戶可以在同一臺設備上完成樣品的觀測和加工，提高了工作效率和便利性。

l 參數：*小束斑 優于5nm;  探針電流 1pA~20nA;  線寬 優于15nm

l 應用場景

科研教學、微電子制造、原型器件開發、納米材料制備、生物醫療研究

l 應用案例

二維周期陣列結構加工

50nm線寬/周期200nm光柵結構

60nm直徑點陣周期結構

聲表面波碳納米管諧振器耦合器件

場效應晶體管電極

2、真空互聯

真空互聯掃描電鏡用于對樣品車傳遞過來的產品進行自動檢測，分析其表面晶粒形態大小分布等信息，評估其薄膜的膜質量情況。

真空互聯系統可以在真空狀態下對樣品進行預處理，并傳遞到掃描電鏡內進行觀測.

自動檢測和反饋系統，對樣品標簽、位置狀態、樣品交接進行監控和記錄，可以清晰的了解樣品傳輸狀況。

3、激光聯用-超快電鏡

l 功能：

超快電鏡利用激光、電場等外界刺激使樣品達到激發態。使用時間延遲可調的另一束激光作用于電鏡燈絲，產生脈沖電子束照射于樣品表面進而收集表面逸出的二次電子對激發瞬態進行表征。

l 掃描電鏡電子槍及發射陰極改造

改造后的電子槍 

（1）激光入口 ；

（2）探測激光引入示意圖，與電子束方向呈一定角度夾角;

（3）從激光入射口可見陰極工作時的發射狀態。

l 應用領域

超快結構動力學，新型光場隱含物態調控、自由電子量子光學等。