粉體行業(yè)在線展覽
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CMP后清洗液
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湖北鼎龍控股股份有限公司
湖北
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湖北鼎龍
CMP后清洗液
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主要用于去除殘留在晶圓表面的微塵顆粒、有機(jī)物、無(wú)機(jī)物、金屬離子、氧化物等雜質(zhì)，滿足集成電路制造對(duì)清潔度的極高要求，對(duì)晶圓生產(chǎn)的良率起到了重要的作用。全系列原材料電子級(jí)純化產(chǎn)線，諸多核心材料自主生產(chǎn)。
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