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氣相沉積制粉一體真空爐

設(shè)備名稱：氧化亞硅半連續(xù)氣相沉積爐 

應(yīng)用領(lǐng)域：氧化亞硅半連續(xù)量產(chǎn) 

工藝描述：高真空脫氧，氣相沉積，自動(dòng)研磨刮 料、爐外收集。可配AGV智能物流車

型號參數(shù)：

1．型號：MGC50-50-360HH

2. 技術(shù)參數(shù)：裝料罐尺寸Φ400 * 1600，裝料量Max.800Kg，工作溫度１35０℃，極限溫度1600℃，溫差控制精度3℃，真空度0.1* 0.5pa，氣氛類別：Ar/N2，總功率150KW，工序時(shí)長8H/爐。

3. 工藝特點(diǎn)：適用于動(dòng)力電池負(fù)極材料（氧化亞硅等可氣相沉積材料）大批量生產(chǎn)用；溫差控制精度高，高溫高真空；具備脫脂、脫水、混煉反應(yīng)、提純等工藝能力。生產(chǎn)效率高，全程全封閉全自動(dòng)化作業(yè)，生產(chǎn)能耗低，性能穩(wěn)定，主要元器件皆為進(jìn)口大品牌，是目前業(yè)界真空氣相沉積制粉工藝優(yōu)秀的解決方案。