粉體行業(yè)在線展覽
HON-He/Ar/Ne/Xe-SX/WX/VX系列惰性氣體純化器
面議
科立恩
HON-He/Ar/Ne/Xe-SX/WX/VX系列惰性氣體純化器
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系列 Series | 雜質(zhì) Impurity | 入口 Inlet(ppm) | 出口 Outlet(ppb) |
HON- He/Ar/Ne/Xe -SX/WX/VX | O2 | <3 | <1 |
N2 | <1 | <1 | |
H2 | <1 | <1 | |
CO | <1 | <1 | |
CO2 | <1 | <1 | |
THC | <1 | <1 | |
H2O | <3 | <1 | |
PARTICLES | -- | ≤10pcs/m3, 0.003μm | |
Pressure Drop | <1bar | ||
Flow | 10~3000Nm3/h |
工藝介紹:
(1)先通過物理和化學(xué)吸附脫除O2、CO、CO2、H2O等雜質(zhì)。
(2)通過吸氣工序高溫下進一步脫除O2、CO、CO2、H2O同時深度脫除CH4、N2。
(3)通過脫氫工序常溫下深度脫除H2雜質(zhì)。
(4)吸附反應(yīng)器吸附飽和后可通氫加熱再生,反復(fù)使用。
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