粉體行業(yè)在線展覽
TFX4000OCD——光學關鍵尺寸量測
面議
睿勵科學
TFX4000OCD——光學關鍵尺寸量測
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光學關鍵尺寸量測產品基于光學膜厚量測平臺,搭載自主研光學關鍵尺寸量測產品基于光學膜厚量測平臺,搭載自主研發(fā)算法功能,可應用于顯影后檢查(ADI)、刻蝕后檢查(AEI)等多種工藝段的二維或三維樣品的線寬、側壁角度(SWA)、高度(Height)/深度等關鍵尺寸(CD)特征或整體形貌測量。
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