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儀器簡介：

應用：

◆ 二氧化硅、氮化硅、氮氧硅全自動沉積工藝。

技術參數：

SKY公司的C1 PECVD設備是買斷Novellus C1型號的技術授權在國內生產的PECVD設備，所有性能指標均和美國原產地Novellus C1相同，配件國產率超過70%。 SKY公司依托Novellus公司的技術授權，擁有本地及回國人員組成的強大技術團隊，目前產品主要應用于4~6”主流硅半導體、化合物半導體及MEMS領域。

主要特點：

◆ 高度穩定的均勻性；

◆ 高度穩定的折射率；

◆ Novellus技術授權；

◆ 零部件國產化及穩定的零部件供應；

◆ 菜單式二氧化硅、氮化硅、氮氧硅全自動沉積工藝；

◆ 真空室（沉積室）等離子體自動刻蝕清洗；

◆ 雙頻RF/LF電源發生器；

◆ 阻抗匹配器自動調節；

◆ 單腔（七片）、連續（七十五片）自動轉換沉積。