粉體行業在線展覽
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BTF-1200C-RTP-CVD
直接聯系
安徽貝意克設備技術有限公司
安徽合肥
面議
BTF-1200C-RTP-CVD
1932
一、設備簡介
該款設備是由單端封口紅外滑軌爐、 高真空機組、供氣系統及操作控制界面組成，內控熱電偶用于控制RTP爐內的溫度，出氣口通過連接手動擋板閥、波紋管用于對石英艙體內的真空獲取，進氣口除用于通入保護氣體或反應氣體外，還可以用于移出爐膛后通入氣體帶走熱量的快速降溫，以此獲得較高的降溫速率。
二、技術參數
加熱系統 | |
額定電壓 | AC 220V 50/60Hz |
額定功率 | 20KW |
使用溫度 | 1200℃ |
額定溫度 | 1000℃ |
穩定狀態溫度范圍 | 100~1000℃ |
加熱區長度 | 230mm |
恒溫區長度 | 120mm |
溫度控制重復性 | ±3℃ |
溫度控制精確度 | ±0.1℃ |
升溫速率 | ≤50℃/s |
控溫方式 | 內控溫 |
溫度過沖 | ≤3℃ |
爐管尺寸 | 高純石英管Φ90*400*R45mm |
控溫方式 | 智能化PLC控制，具有超溫和斷偶報警功能 |
真空機組主要參數 | |
空氣相對濕度 | ≤85% |
工作電壓 | 220V±10% 50~60Hz |
抽氣速率 | 165L/min |
實驗真空度 | 5.0x10-1Pa（空載、冷態） |
容油量 | 1.1L |
進氣口口徑 | KF25 |
排氣口口徑 | KF25 |
供氣系統主要參數 | |
連接頭類型 | 雙卡套不銹鋼接頭 |
標準量程（N2） | 200sccm、500sccm |
準確度 | ±1.5% |
線性 | ±0.5~1.5% |
重復精度 | ±0.2% |
響應時間 | 氣特性 1~4Sec，電特性 10Sec |
工作壓差范圍 | 0.1~0.5MPa |
壓力 | ≤3MPa |
接口 | Φ6，1/4” |
顯示 | 液晶屏顯示 |
工作環境溫度 | 5~45高純氣體 |
內外雙拋不銹鋼管 | Φ6 |
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
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