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等離子化學氣相沉積系統-PECVD
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等離子化學氣相沉積系統-PECVD
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等離子化學氣相沉積系統-PECVD
ZYE-1200-PE
為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促進反應，因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積法（PECVD）。它是由500W射頻電源、1200℃單溫區管式爐、三通道質量流量混氣系統和真空系統組成。此款PECVD系統用于生長納米線、石墨烯或SiC薄膜等
| 型號 | ZYE-1200-PE |
| 工作溫度 | **溫度：1200℃（使用是必須通入惰性氣體以防爐管發生形變）工作溫度：1100℃推薦升溫速率：≤10℃/min |
| 控溫精度 | ±1℃ |
| 配置爐管尺寸 | Φ50（外）×1200mm（其他可定制） |
| 爐膛尺寸 | |
| 加熱區 | 加熱長度：220mm 恒溫區長度：60-80mm（±3℃） |
| 控制方式 | PID控制和自整定調節功能，智能化30段可編程控制，具有超溫及段偶功能K型熱電偶，可安裝PC控制軟件對數據進行實時采集（需另購） |
| 密封系統 | 不銹鋼密封法蘭（包括316L針閥、真空機械壓力表、軟管接頭） |
| 加熱元件 | 北京首鋼HRE |
| **功率 | 3kW |
| 供氣系統 | 三路高精度MFC 量程0-500sccm（按客戶需求定） |
| 射頻電源 | 射頻功率：5-500W 射頻頻率：13.56MHz 匹配方式：自動匹配 |
| 真空系統 | 雙級旋片真空泵（可定制擴散泵 分子泵等） |
| 額定電壓 | 單相AC220V 50/60Hz |
| 外形尺寸 | 1600*600*1200mm（長*寬*高） |
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