粉體行業(yè)在線展覽
濺射設(shè)備 SRH-420
面議
萬德思諾
濺射設(shè)備 SRH-420
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產(chǎn)品圖片:
產(chǎn)品型號:
SRH-420
產(chǎn)品特點介紹:
1. Precise Sputtering with wafer temp. control
2. Simple transfer system
3. Thin Wafer(<100μm)Auto transfer
4. Max.5Process Chamber (Including Multi Cathode Chamber)
溶液成長法單晶生長設(shè)備(TSSG法)
中型高速研磨設(shè)備 STC-610
快速高溫退火設(shè)備RTA RSA-06
全自動晶片減薄機SGM-9100
桌上型精密切割機MPC-200e
MIST-CVD氧化物薄膜沉積設(shè)備 M150A
C2W低溫?zé)釅烘I合設(shè)備 SAFP
高還原性低溫?zé)釅簩?zhǔn)鍵合設(shè)備 MAFP
高還原性低溫?zé)釅烘I合設(shè)備 FATB
碳膜濺射設(shè)備 CS-200
碳膜去除設(shè)備 NE-550EX
激活退火設(shè)備 Ailesic-2000
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037