粉體行業在線展覽
高真空磁控濺射鍍膜設備JCP350
面議
北京泰科諾
高真空磁控濺射鍍膜設備JCP350
1056
設備型號 :JCP350
真空腔室結構: 后置抽氣系統,氣動提開式
真空腔室尺寸: Φ350mm×H350mm
加熱溫度 :室溫~ 500℃
基片臺尺寸 :Φ120mm
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